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上海微电子“一种光束调整装置及光刻机”专利公布
6 小时前
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来源：集微网
上海微电子公布光刻机相关专利，涉及光束调整装置，通过支撑座、反射镜组和驱动机构实现高精度控制，提升光刻机加工质量与成品率。
天眼查显示，上海微电子装备（集团）股份有限公司“一种光束调整装置及光刻机”专利公布，申请公布日为2025年3月21日，申请公布号为CN119668039A。
本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种光束调整装置及光刻机。所述光束调整装置包括支撑座、反射镜组和驱动机构，反射镜组包括镜组安装座和固定于镜组安装座上的镜组，镜组安装座的中心位置与支撑座可活动连接；两个驱动机构的驱动端与镜组安装座的中心位置的连线相垂直，一个驱动机构的驱动端能够驱动镜组安装座绕第一轴线转动，另一个驱动机构的驱动端能够驱动镜组安装座绕第二轴线转动，第一轴线与第二轴线相垂直，从而实现第一轴线方向的转动和第二轴线方向的转动分别控制，避免两个方向的转动串扰，提高控制精度。所述光刻机通过应用上述光束调整装置，加工质量好，产品成品率高。
