国家知识产权局审查业务部拟于2026年11月12日举办集成电路布图设计新规及专利按需审查体系实务专题宣讲会,由专家解读政策并邀请头部企业知识产权负责人分享经验,免费报名至11月10日。
为帮助广大创新主体、专利代理机构准确理解审查相关政策、审查标准、业务流程及实务要点,国家知识产权局审查业务部拟举办专题宣讲会,由审查业务部相关专家进行权威解读,并邀请ICT产业领域头部企业知识产权负责人分享实操经验,欢迎相关同仁积极报名参加。现就有关事项通知如下:
一、宣讲主题
集成电路布图设计新规及专利按需审查体系实务专题
二、宣讲时间(拟)
2026年11月12日(周四)14:00-16:35
三、宣讲形式线下会场地址:海淀区高梁桥斜街11号院 中国专利大厦10层会议室
四、宣讲内容(议程)1.议题一:《集成电路布图设计保护条例实施细则》宣贯预计时间:14:00-14:40——局令86号公布的《集成电路布图设计保护条例实施细则》已于2026年9月14日经第 6 次局务会议审议通过,自2026年10月30日起施行。
主讲人:国家知识产权局专利局审查业务管理部专家
2.议题二:按需审查体系政策解读预计时间:14:45-15:40——涵盖集中审查、优先审查、延迟审查、快速审查、巡回审查、PPH 等内容,结合实务典型案例,梳理审查共性问题、答复实操要点。
主讲人:国家知识产权局专利局审查业务管理部专家
3.议题三:创新主体实操经验分享及交流
预计时间:15:45-16:35嘉宾一:北京北方华创微电子装备有限公司 副总裁&法总 宋巧丽
嘉宾二:华为技术有限公司 半导体知识产权总监 孙岩
嘉宾三:小米集团 法务总监 郑娟娟
嘉宾四:北京集创北方科技股份有限公司知识产权总监 樊磊
嘉宾五:山东天岳先进科技股份有限公司 知识产权总监 杨世兴
五、报名安排1.报名时间:自本通知发布之日起至2026年11月10日(周二)18:00,名额有限,报满即止。
2.报名方式:扫描下方二维码填写报名表单

3.报名确认:报名成功后,会前1 个工作日将通过短信 / 邮件发送参会凭证;请准确填写邮箱及手机号。
4.本次宣讲: ☑免费
六、相关须知1.请报名人员按时参会,请携带有效证件或有效参会信息提前签到入场。2.宣讲全程请勿私自录屏、转播;未经许可不得对外传播宣讲课件内容。
3.如报名后无法参会,请及时告知联系人,释放名额供其他同仁。
七、咨询联系方式联系人:刘婧
联系电话:15010062699(微信同号)
邮箱:ijiwei_ip@ijiwei.com