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上海微电子“垂向测量装置、垂向测量方法及光刻机”专利获授权
2025-02-14
上海微电子装备(集团)股份有限公司近期获得一项名为“垂向测量装置、垂向测量方法及光刻机”的专利，授权公告号CN117192917B，该专利于2024年12月31日正式公告，申请日期为2023年9月25日。该专利涉及光刻机技术，通过创新的垂向测量装置和方法，提升了光刻机的测量精度。
