麻省理工学院团队成功研发出一种新型纳米级3D晶体管,采用锑化镓和砷化铟的超薄半导体材料,性能媲美甚至超越现有硅基晶体管。该晶体管运用垂直纳米线场效应晶体管(VNFET)技术,通过垂直结构管理电子流,突破传统水平晶体管的局限。研究还引入量子隧穿原理,使晶体管在低电压下性能更优。这一创新有望大幅提升芯片上3D晶体管的集成度,开发出速度更快、性能更强的电子设备,同时实现更高的能效。未来,这项技术或可取代硅,成为硅晶体管领域的新高效选择。