2025海淀区经济社会高质量发展大会于2月14日正式发布了《中关村科学城集成电路流片补贴申报指南》。该指南旨在支持海淀区从事集成电路设计业务的企业,特别是鼓励它们进行多项目晶圆(MPW)或工程产品首轮流片(全掩膜)。根据指南,单个企业最高可获得1500万元的补贴。 具体而言,对于在境内进行先进制程(14nm及以下)工程产品首轮流片的企业,补贴将不超过流片费用的30%,上限为800万元;对于在境内进行成熟制程(14nm以上)首轮流片的企业,补贴将不超过费用的20%,上限为500万元;对于在境外进行先进制程首轮流片的企业,补贴将不超过费用的15%,同样上限为500万元。 此次补贴政策的出台,无疑将为海淀区集成电路设计企业提供更多的资金支持和政策保障,有助于推动该领域的高质量发展。