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尼康拟于 2028 财年推出新款浸没式 ArF 光刻机，与 ASML 主导生态兼容
2025-02-19
尼康计划在2028财年推出一款新型浸没式ArF光刻机，旨在挑战ASML在光刻机市场的主导地位。尼康期望通过这款机器提升在浸没式ArF光刻市场的份额。随着DRAM内存和逻辑半导体向三维方向发展，尼康预计浸没式ArF光刻机的需求将会增长。这款新光刻机将与ASML的设备生态兼容，尼康希望借此吸引更多用户。新一代光刻机将配备新型镜头和工件台，设计紧凑且易于维护。尼康还透露，再下一代产品预计将在2030年后开始研发。
