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清华深圳国际研究生院李星辉团队在干涉光刻全局对准领域取得新进展
2025-03-21
衍射光栅在精密测量、激光脉冲压缩及光谱分析等领域有广泛应用。干涉光刻作为一种无掩膜曝光光刻技术，在衍射光栅制造方面展现出高效率与高灵活性。然而，其加工的光栅尺寸受限于曝光系统光束口径，增大光学元件口径面临实际困难。为解决这一问题，光学曝光拼接方法应运而生，通过移动拼接单次曝光区域来拓宽光栅尺度。此技术需依赖稳定、精准的外部参考实现全局对准，其中基于外部参考光栅的方法具备高精度与高鲁棒性。但当前，在参考光栅曝光拼接领域，尚缺乏平面两个正交方向上的全局对准方法。对此，清华大学深圳国际研究生院副教授李星辉团队提出了基于参考光栅全局对准的干涉光刻拼接曝光方法与系统，为衍射光栅制造中的口径扩展提供了新思路。相关研究成果已发表于《微系统与纳米工程》期刊。
