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台积电正在观望下一代光刻机
2025-04-29
台积电在半导体领域常扮先驱角色，但现决定在A14工艺中弃用高数值孔径EUV光刻设备，转而采用传统的0.33数值孔径EUV技术。此举主要是出于成本考量，高数值孔径EUV设备成本高昂，且A14芯片设计使用传统技术同样能达到所需精度，同时降低生产成本。
