搜索
ASML国内展出两款新型光刻机 不高于110nm、4倍生产效率
12 小时前
在第八届进博会上，荷兰ASML公司展示了两款新型光刻机TWINSCAN XT:260和TWINSCAN NXT:870B。这两款光刻机并非用于传统芯片光刻生产，而是专为3D封装等先进封装领域设计。其中，TWINSCAN XT:260是ASML首款服务于先进封装领域的光刻系统，具备大视场曝光能力，生产效率较现有机型提高4倍。TWINSCAN NXT:870B则在升级光学器件和新一代磁悬浮平台支持下，每小时晶圆产量超过400片。
