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中国科学院透射电镜表征纳米薄膜技术研究取得进展
22 小时前
近期，中国科学院上海光学精密机械研究所研究团队在透射电镜精确表征纳米薄膜领域取得新进展。该团队提出了样品沿β方向倾转后测量薄膜厚度的计算公式，并给出了透射电镜精确表征纳米薄膜结构的方法。以Mo/Si多层膜为例，研究发现在透射电镜表征时，需关注Si基底的晶向或采用非晶基底材料，以保证样品截面与电子束垂直，避免三维立体样品二维投影成像产生伪影。团队提出的方法包括沿特定方向切割Si晶圆，并从特定晶带轴观察样品，从而保证样品截面与电子束垂直，提高了表征的准确性。相关研究成果已发表于《光学学报》。
