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可替代EUV光刻机 工艺直逼1.4nm 日本开发全新纳米压印技术
17 小时前
日本作为全球第二大光刻机供应国，正积极研发可替代EUV的光刻技术，并选择了NIL纳米压印技术路径。日本DNP公司已成功开发出10nm精度的NIL纳米压印技术，该技术可应用于1.4nm工艺的逻辑芯片曝光。通过采用SADP自对准双重图案技术，该技术能满足先进工艺逻辑芯片的制造需求，且功耗仅为当前主流工艺的十分之一左右。DNP公司在NIL技术领域已有超过20年的研发经验，其技术具备部分替代EUV光刻的潜力。目前，该公司已与硬件供应商展开合作评估，并预计于2027年开始量产出货。
