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英特尔成功安装全球首台商用High-NA EUV光刻机，冲刺1.4nm芯片量产
1 天前
英特尔宣布，已成功安装ASML的Twinscan EXE:5200B光刻机。这是业界首台配备0.55数值孔径投影光学系统的商用芯片生产High-NA EUV光刻机。该设备已顺利通过验收测试，将用于Intel 14A（1.4nm）工艺的开发。14A工艺将成为全球首个在关键层采用High-NA EUV光刻机的工艺节点，标志着High-NA EUV光刻技术正从实验阶段向量产阶段迈进。
