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消息称中国秘密搞定第一台EUV光刻机 逆向自ASML
8 小时前
据外媒报道，2025年初，中国一家秘密实验室在深圳一处安保严密的设施内组装出第一台EUV极紫外光刻系统原型机，该原型机几乎覆盖整个厂房，是通过逆向工程ASML现有光刻机产品而来，采用与ASML Twinscan NXE系列相同的激光等离子体（LPP）技术，可产生波长为13.5纳米的极紫外光。目前，该原型机正处于秘密测试阶段，虽已具备极紫外光生成能力，但因无法复刻高精度光学系统，尚不能制造可用芯片，中国计划2028年试产原型芯片。
