台湾检方12月3日宣布,对日本东京威力科创(TEL)台湾子公司及三名被告追加起诉,指控其涉嫌窃取台积电2纳米芯片制程的商业机密。此前,台积电前工程师陈力铭跳槽至TEL台湾子公司后,为获取蚀刻机台量产测试数据,勾结台积电在职工程师吴秉骏、戈一平,通过远程登录内网、手机拍摄等方式窃取核心参数,共翻拍数百张2纳米制程资料。检方认定,TEL台湾子公司对陈力铭负有监督责任,但未采取具体防范管理措施,涉嫌违反营业秘密法及国家安全法等四项罪名,拟处罚金新台币1.2亿元。陈力铭等三人此前已被起诉,分别求刑14年、9年、7年。TEL回应称,涉事员工已被解雇,公司未发现组织性介入及机密信息外流,但将强化合规体系及审查机制。
