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ASML计划将EUV光源功率提至1000W 2030年每小时晶圆产量可提升50%
11 小时前
ASML首席技术专家Michael Purvis透露，其研究团队已成功将极紫外（EUV）光刻机的光源功率从600瓦提升至1000瓦。这一突破并非实验室短期演示成果，而是可满足客户实际生产环境严苛要求、稳定运行的完整系统。据ASML测算，光源功率提升至1000瓦后，到2030年，EUV光刻机每小时晶圆处理能力可从220片提升至330片，增幅达50%，且单片晶圆制造成本基本保持不变。
