三星计划在HBM5世代采用2nm基础裸片,其运行速率预计比HBM4E提升超50%。该基础裸片支持更高密度的硅通孔,可显著改进性能和能效。此前,三星HBM4和HBM4E均采用4nm基础裸片,其中HBM4E通过应用高密度、超高性能器件实现14+Gbps高速运行,还通过优化金属层排列降低功耗、改善散热路径。