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消息称SK海力士推进EUV工艺，开始引入新材料PSM
2 小时前
据ZDNET Korea报道，SK海力士正积极推进极紫外光刻（EUV）技术，旨在实现下一代DRAM的量产。公司于去年首次引入高数值孔径（High-NA）EUV设备，并已于今年全面启动相关技术研发。为提升EUV光刻性能，SK海力士已开始全面引入相移掩模（PSM）等新型材料。
