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国产化再进阶！开悦半导体inline涂胶显影机顺利出机
13 小时前
近日，合肥开悦半导体自主研发的存储制程适配型inline联机涂胶显影机，经过18个月的研发、迭代及可靠性出厂验证后，顺利通过检测并交付给存储芯片制造客户。该设备适用于3D NAND、DRAM、HBM等主流存储产线，有望为国内光刻领域提供国产化替代方案。
