全球首个!深圳平湖实验室GaN-on-SiC工艺平台取得新突破
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8月20日,深圳平湖实验室宣布在氮化镓领域取得重大突破,成功推出全球首个8英寸碳化硅基氮化镓(GaN-on-SiC)增强型HEMT工艺平台。该平台依托实验室科研与中试一体化优势,攻克了多项关键技术,全面验证了8英寸GaN-on-SiC技术的产业化可行性,为第三代半导体GaN/SiC集成发展奠定了坚实基础。