SK海力士正为其下一代高带宽内存(HBM)引入英特尔EMIB等先进封装技术,并计划最终实现3D封装。在2026年Hot Chips大会上,SK海力士封装工程副总裁Jaesik Lee发表了题为“高带宽内存的先进封装”的简报,详细阐述了公司如何利用先进封装技术推动HBM产品发展。当前HBM通过硅通孔(TSV)实现3D堆叠,最高可达16层。相比传统GDDR6,HBM3E在节省空间的同时,可提供高达144GB容量和4TB/s带宽。SK海力士的HBM4将具备24Gb DRAM密度和36GB总容量,IO速度达8Gbps,带宽超2TB/s,功耗降低40%以上。为应对带宽需求激增带来的挑战,SK海力士正探索混合键合等未来方法,以突破16层堆叠限制。此外,公司还计划通过增加TSV数量、提高逻辑工艺集成IO速度及优化电源分配网络来解决功耗问题。值得注意的是,SK海力士在其2.5D HBM解决方案中提及了英特尔EMIB封装技术,并传闻将与英特尔在内存领域展开合作。展望未来,SK海力士正着眼于3D集成技术,期望将HBM直接堆叠在加速器之上。
