10月14日,第二十六届中国国际工业博览会在国家会展中心举行,创新科技馆集中展示了百余项上海科创成果。其中,朗道燧岩展出的极紫外光源系统样机首次亮相工博会,这是目前公开展示中进度最靠前的国产EUV光源样机,被誉为高端光刻机的“心脏”。极紫外光源是制造7纳米及以下先进制程芯片的三大核心零部件之一,长期受海外技术垄断和禁运限制,是我国高端芯片自主可控的关键瓶颈。据现场工作人员介绍,该光源系统国产化率达90%,绝大多数核心零部件为自主研发,技术路线与国际领先厂商一致,可用于芯片曝光测试。尽管距离量产还需3至5年,但这一突破标志着国产EUV光源从实验室走向产业化迈出了关键一步。
