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北方华创“半导体工艺腔室及其控制方法”专利公布
2024-12-13
北京北方华创微电子装备有限公司公布“半导体工艺腔室及其控制方法”专利，申请公布号为CN118866735A，公布日期为2024年10月29日。该专利涉及半导体工艺技术领域，旨在解决刻蚀工艺中含卤素气体腐蚀气路管道的问题。
