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中国科大揭示二维异质结界面自发弯曲的原理
2025-02-28
中国科大苏州高等研究院钟志诚课题组在二维异质结界面结构研究上获新突破。他们提出的“自发弯曲”模型，成功解释了二维异质结中由原子重排导致的面外起伏现象，相关成果以“Spontaneous curvature in two-dimensional van der Waals heterostructures”为题，发表于国际权威期刊Nature Communications。该模型指出，这种弯曲由堆叠能量和变形能量之间的竞争驱动，与平面内应变无关。通过深度势能辅助的分子动力学模拟，课题组观察到石墨烯/氮化硼异质结中的显著面外起伏，并形成了莫尔图案。这一发现为理解二维异质结的原子和电子结构提供了新视角，有望在量子模拟、光电子设备和低摩擦连接器等领域发挥重要作用。
