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美国调整对中国芯片设备法案：仍限制ASML DUV光刻机 禁止中芯国际、长江长鑫等使用
2 小时前
美国针对中国半导体产业的《MATCH法案》已完成修订。新版本缩减了初版的部分激进限制，但仍保留对荷兰ASML的浸没式深紫外光（DUV）光刻机对华出口限制，以及针对中芯国际、长江存储和长鑫存储等中国芯片厂商的供应限制。该法案全称为《硬件技术控制多边协调法案》，于4月2日由美国共和党众议员Michael Baumgartner在众议院提出，获两党共同支持。
