三星电子正加速研发下一代高带宽内存HBM,计划于2026年5月生产出首批符合英伟达标准的HBM4E样品。其目标是在下月中旬前,由代工部门成功生产出HBM4E核心逻辑芯片样品,这些样品在完成内部性能评估后,将被送往英伟达进行验证。HBM4E将采用1c nm DRAM Die和4nm Base Die,工艺细节有所优化。