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美国《硬件技术管制多边协调法案》删除低温刻蚀设备禁令

2 小时前

近日，美国《硬件技术管制多边协调法案》（MATCH Act）在修订时，已悄然删除一项针对中国市场的低温刻蚀设备全国性禁令。该设备由美国泛林半导体和日本东京电子主导供应，是3D NAND闪存和先进DRAM制造的关键。此举被外界视为设备巨头游说的结果。

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