半导体产业研究机构表示,当3D NAND堆叠层数突破约300层后,钼可能取代钨,成为高层数NAND的材料首选。与钨相比,钼在读写速度、制程工艺和填充能力上更具优势。预计2025至2027年,钼在全球NAND总产能中的占比将从个位数中段提升至约30%。到2027年,NAND钼沉积设备市场规模有望超过10亿美元。若DRAM与逻辑芯片也采用钼制程,到2030年,整体钼沉积设备市场的年规模或将达到约20亿美元。在设备供应商中,泛林集团将率先受益,东京电子紧随其后,而应用材料、阿斯麦和北方华创则将更多受益于后续DRAM及逻辑芯片对钼制程的需求。
