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0.7nm工艺 最新分享
2024-12-25
近二十年来，人们意识到纯尺寸缩放已不再是预测CMOS技术节点发展的唯一标准。2005年左右，固定功率下的节点性能改进开始放缓。为保持性能、功率、面积和成本优势，半导体行业开始采用其他技术创新，如晶体管级的材料和架构探索、标准单元级的设计技术协同优化以及3D集成技术，来补充光刻缩放。
