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突破0.6nm精度！全国首台国产商业电子束光刻机面世，无需掩模版
12 小时前
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来源：集微网
近日，被誉为“纳米神笔”的国产电子束光刻机“羲之”在杭州余杭正式亮相，由浙大余杭量子研究院完成研发并进入应用测试阶段，标志着我国在高端芯片研发核心装备领域取得重大突破。它无需掩模版，通过高能电子束直接在硅片表面“手写”电路，精度可达0.6nm、线宽仅8nm，可多次修改设计，大幅提高研发效率。
近日，被誉为“纳米神笔”的国产电子束光刻机在杭州余杭正式亮相。这台设备由浙大余杭量子研究院自主研发，型号为“羲之”，已完成研发并进入应用测试阶段，标志着我国在高端芯片研发核心装备领域取得重大突破。
图片来自：余杭发布
据介绍，作为基地首批签约孵化项目，“羲之”是一款新一代100kV电子束光刻机，模样酷似大型钢柜，电子显示屏上不断闪烁着实时参数，专注于量子芯片和新型半导体器件的前沿工艺开发。它无需掩模版，通过高能电子束直接在硅片表面“手写”电路，精度可达0.6nm、线宽仅8nm，可多次修改设计，大幅提高研发效率。
据研发团队负责人表示，“这不仅是一台设备，更像一支能在头发丝上雕刻整座城市地图的纳米画笔。”与传统光刻机相比，电子束光刻机在原型设计、快速迭代和小批量试制方面具有独特优势。“芯片研发初期会设计很多版型、图案，常常需要一条线一条线进行修改，电子束光刻机精度高、‘书写’便捷，极大提升了芯片研发初期反复调试的效率。”
“羲之”的命名源自中国古代书法大家王羲之，寓意用电子束代替毛笔，在芯片上“写字作画”。其性能已比肩国际主流水平，为国内量子芯片等高端器件的研发提供了自主可控的“刻刀”。
此前，先进电子束光刻机类设备受国际出口管制，国内顶尖科研机构和企业长期无法采购，“羲之”的落地彻底打破这一困局，目前已与国内企业及多家科研机构展开接洽。（校对/赵月）
