英伟达自研HBM Base Die,挑战SK海力士市场地位
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来源:集微网
英伟达计划自研3nm HBM Base Die,提升数据传输效率,强化NVLink生态。此举挑战ASIC市场,但CSP大厂接受度有限。SK海力士推出12层HBM4样品,性能大幅提升。HBM4时代将迎来高速、高堆栈新竞争,台积电技术精进,有望继续扮演关键角色。

近日,英伟达(NVIDIA)传出将进入HBM base die市场,引发业界广泛关注。据悉,英伟达计划自研HBM(高频宽存储器)Base Die,制程节点锁定3nm,预计将于2027年下半年开始小量试产。此举意在提升HBM与GPU、CPU数据传输的顺畅性,为客户提供更多模块化选择,进一步强化其NVLink Fusion开放架构生态系的掌控力。

目前,HBM市场主要由DRAM大厂主导,其中SK海力士占据最高市占率。然而,随着HBM传输速度要求提升至10Gbps以上,制程难度也随之增加,需借助台积电等先进制程技术。据悉,HBM4以上传输速率要求达到10G以上,需以先进制程打造Logic die,因此会委由台积电制作,而ASIC部分则由创意负责。创意的HBM4 IP支持高达12Gbps数据传输速率,并纳入32Gbps UCIe-A及UCIe-3D IP等解决方案,处于业界领先地位。

英伟达的入局被视为对ASIC市场的挑战,但其解决方案被CSP大厂采用的可能性不高。业界分析,CSP大厂投入ASIC正是为了避免受制于英伟达,因此对其HBM Base Die的接受度有限。不过,英伟达的模组化设计有望使联发科、世芯等合作伙伴受益,获得更多商机。

值得注意的是,SK海力士已宣布向主要客户提供新一代12层堆栈HBM4样品,结合先进MR-MUF封装技术,容量可达36GB,频宽突破每秒2TB,较前一代HBM3E带宽提升逾60%。SK海力士还透露,未来将在HBM Base Die导入全球晶圆代工领导厂的逻辑制程,以持续提升产品效能与能耗比。

整体来看,HBM4世代将迎来更高速、更高堆栈、更复杂封装整合的新局面。随着英伟达拟自制Base Die与SK海力士加速HBM4量产,HBM市场将迎来新一波竞争与变革。台积电作为众多芯片大厂的密切合作伙伴,不断在制程技术上精进,有望在这一波变革中继续扮演重要角色,满足AI时代快速进步的需求。