快科技8月17日消息，此前巴黎第一大学教授埃马纽埃尔孔博公开发表署名文章指出，美欧联合出台对华光刻机出口禁令的操作，最后反而会让美国和欧洲自己成为最大的输家，根本达不到他们最初想要遏制中国半导体产业发展的目的。

孔博在文中明确点出，这一轮持续多年的技术博弈最终会产生两个实打实的输家。

第一个是欧洲，欧洲相关产业完全无条件跟着美方的管制规则走，主动放弃了原本占比极高的中国市场份额，后续相关产业链的营收和研发投入都会受到直接的负面影响。

第二个是美国，看似短期之内放缓了中国高端半导体技术的推进速度，实则用最粗暴的方式倒逼中国全资源投入自研高端核心技术，加速本土全产业链体系的补全完善。

从2019年开始，在美国的持续外交施压下，荷兰政府顶不住压力，接连出台管制规则，最终完全禁止向中国出口最顶尖的EUV光刻机，甚至连不少性能超出普通民用标准的高端DUV光刻机也限制对华出货，ASML作为全球光刻机龙头的中国业务版图直接被砍掉了大半。

孔博教授在文章里抛出了一个远超出ASML单个企业个案的普遍性问题：动用国家力量强行限制一个工业大国获得尖端技术，最终到底是会削弱这个国家的创新能力，还是反而会彻底激发它的内生创新动力，逼出原本几十年都未必能落地的技术成果？过往的无数产业发展经验，其实早已经给出了明确的答案。

现实情况也确实印证了这个疑问，在层层加码的外部技术限制之下，中国整个半导体行业正集中全部资源攻坚，一步步打破海外厂商维持了几十年的光刻机垄断格局，现在已经拿出了不少阶段性的技术成果。

现在中国虽然没法买到最顶尖的EUV光刻机，但是依然可以通过增加DUV光刻机多重曝光工艺的次数，来制造制程指标接近顶尖水平的先进芯片，唯一的代价是生产良率会比用EUV工艺低不少。

既然进口海外顶尖光刻机的路径已经完全被堵死，留给中国产业界的路其实只剩下一条，就是不计成本投入资源研发，自己造出完全自主可控的最先进光刻机。

之前因为ASML的产品可以自由进入中国市场，就算本土光刻机企业研发出了可用的产品，也很难找到足够多的愿意买单的下游客户，前期研发投入的风险极高，很难形成正向循环，现在整个行业的生存环境已经完全反转。

现在全球最强大的海外光刻机竞争者已经被官方禁令挡在中国市场大门之外，本土光刻机研发企业面对的是一个几乎“被锁定”的体量巨大的国内需求市场，下游芯片厂商哪怕暂时承担更高的采购成本，也愿意优先支持国产设备落地迭代。

换个角度来看，这些海外强加的技术出口限制，本质上等于主动给中国的新兴半导体设备产业提供了最高等级的贸易保护，只不过这种保护不是本国政府主动出台政策实施的，完全是美欧的管制措施硬生生倒逼出来的。

孔博的文章里也给出了相对客观的阶段性评估，当然从短期维度来看，现在中国产业对全球DUV光刻机市场的冲击还非常有限，产能爬坡需要时间，预计今年国内仅能交付几台量产的国产DUV光刻机，到2027年全年交付量也不过二十台左右。

作为对比，仅2025年一年，ASML就向全球客户交付了131台DUV设备，双方的产能规模目前还存在非常大的差距。

不少行业观察人士也顺着这个逻辑推演，如果未来中国真的完全突破了高端光刻机的技术瓶颈，实现全产业链自主可控，回头看甚至可以说要间接感谢特朗普政府当年推出的极端出口限制政策，正是这套完全不讲理的封锁组合拳，彻底打断了国内不少企业之前依赖进口技术的幻想，硬生生把中国半导体产业逼上了全面自主创新的快车道。