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精准量测 智能分析｜爱德万测试与您相约 IWAP 2026
6 小时前
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来源：集微网
爱德万测试将亮相IWAP 2026，展示E3660 MASK CD-SEM和E5620 MASK DR-SEM两款光掩模量测与缺陷分析解决方案，助力客户应对先进节点量测挑战。
随着先进工艺持续演进，光掩模量测精度和缺陷分析能力的重要性日益提升。作为扫描电子显微镜（SEM）解决方案的重要提供商，爱德万测试持续推动光掩模量测技术创新，助力客户应对先进节点的量测挑战。
2026年9月10日至11日，爱德万测试（Advantest）将亮相 IWAP 2026，展示先进光掩模量测与缺陷复查分析解决方案，并与业界专家和合作伙伴共同探讨光掩模量测技术的发展趋势与应用实践。
展位号：15C30
会议时间：2026年9月10日-11日
会议地点：深圳国际会展中心（广东省深圳市宝安区福海街道展城路1号）
E3660 MASK CD-SEM
面向先进节点的高精度光掩模量测解决方案
E3660 MASK CD-SEM专为先进光掩模及纳米压印模板量测需求打造，可满足Sub-2nm节点及曲线掩膜（Curvilinear Mask）等先进量测需求。
产品特点
大视场（LFOV）与海量多点量测能力
高吞吐量与卓越稳定性
优异的长期量测重复性
支持曲线掩膜量测应用
E5620 MASK DR-SEM
智能化光掩模缺陷分析解决方案
E5620 MASK DR-SEM®集高分辨率成像与自动化分析能力于一体，可帮助用户快速完成缺陷定位、复查与分析，提升工程效率与品质管理水平。
产品特点
全自动缺陷图像捕捉
全自动元素成分分析（EDS）
支持BSE检测功能
支持与Mask Inspection设备数据联动
欢迎与我们相约深圳
诚邀您莅临 IWAP 2026，与爱德万测试技术专家面对面交流，共同探索先进光掩模检测技术的未来发展。
IWAPS 2026
IWAPS覆盖光刻设备、工艺制程、计量检测、掩模材料、计算光刻、系统协同优化及新型技术等全产业链 ，依托深芯盟产业优势与湾芯展生态资源，为 “产、学、研、投” 提供技术对话与合作窗口。
