台积电罗镇球:N3已获约100份NTO 预计将成为高产量、长期运行的制程节点
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11月20日消息,2025集成电路发展论坛(成渝)暨第三十一届集成电路设计业展览会(ICCAD-Expo2025)今日在成都开幕。台积电(中国)总经理罗镇球称,3nm是FinFET技术的最终且最优形态。他透露,台积电的N3E制程已实现旗舰移动设备及高性能计算(HPC)/人工智能(AI)产品的量产,N3P则按计划于2024年第四季度投产,将接替N3E。为满足特定应用需求,台积电已推出多种N3变体:N3X面向客户端CPU,N3A针对汽车领域,N3C则面向价值级产品。预计N3将成为高产量、长期运行的制程节点,截至2025年9月,已获得约100份新制程技术(NTO)订单。