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ASML 与台积电倡议推动向 12 英寸 High NA EUV 光掩模转型
4 小时前
ASML与台积电携手发起产业合作倡议，旨在推动12英寸光掩模转型，以充分释放High NA EUV光刻技术的潜力。双方计划在2031年前建立12英寸光掩模试产线，并在2033年前完成用于先进制程节点生产的完整光刻系统准备工作。该倡议已获产业界广泛支持，多家企业表达了加入意向。
