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消息称英特尔18A工艺良率提升至55%，超越三星2nm
7 小时前
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来源：集微网
报告称，英特尔18A工艺良率提升至55%，超越三星2nm工艺，但仍落后于台积电N2工艺。预计2025年第四季度良率可达70%，用于下一代移动CPU生产。英特尔通过内部产品应用巩固技术，计划未来与台积电竞争，市场对其前景持乐观态度。
英特尔阵营终于传来好消息，据报道，英特尔18A（1.8nm）工艺的良率已高于竞争对手目前水平。
目前，根据KeyBanc Capital Markets分析，在一份研究报告中，英特尔18A工艺的开发进展迅速，良率高于三星SF2（2nm）工艺，但落后于台积电N2（2nm）工艺。然而，这表明英特尔确实有望在2025年底前实现大规模量产。
英特尔18A的良率已从上一季度的50%提升至55%。相比之下，三星的2nm工艺良率约为40%，略有提升，但低于台积电N2工艺65%的良率。
良率的稳步提升对英特尔而言至关重要，尤其是在英特尔18A工艺更专注于Panther Lake等内部产品的情况下；因此，英特尔必须在这一阶段取得成功。谈到Panther Lake，KeyBanc Capital Markets指出，该公司正按计划为下一代移动CPU量产英特尔18A工艺，据报道，到2025年第四季度，良率将达到70%。虽然预计英特尔的良率不会超过台积电，但拥有一个强大的工艺节点对英特尔来说已经足够。
英特尔18A工艺节点的未来前景一直存在不确定性，但该公司内部的使用足以证明该工艺的成功。英特尔计划先以18A工艺在尖端领域站稳脚跟，然后再以英特尔14A（1.4nm）工艺向外部客户转型。这一决定将使他们能够在市场上推出更具竞争力的产品，并有可能与台积电A14（1.4nm）展开竞争。（校对/赵月）
