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美国向xLight投资1.5亿美元，或成其最大股东
7 小时前
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来源：集微网
美国商务部将向xLight提供最高1.5亿美元资金支持，该公司专注研发更先进的EUV光刻技术，力争2028年生产首批晶圆，其激光器目标波长低至2nm，有望提高晶圆加工效率。
美国商务部在一份新闻稿中表示，将依据《2022年芯片法案》，向新创公司xLight提供最高1.5亿美元的资金支持。
xLight公司由前英特尔CEO基辛格担任董事会执行主席，专注于研发更先进的极紫外光（EUV）光刻技术。作为资金支持的回报，美国政府将获得该公司股权，并可能成为其最大股东。
荷兰公司ASML目前是EUV光刻机的全球唯一生产商，每台光刻机的成本可能高达数亿美元。xLight正寻求改进EUV工艺中的一个组件：将复杂的微观图案蚀刻到经过化学处理的硅晶圆上的至关重要的激光器，与目前由德国Trumpf供应的激光部件展开竞争。xLight力争在2028年生产出首批晶圆，并希望将其光源集成到ASML的设备中。
“这项合作将支持一项能够从根本上改写芯片制造极限的技术，”商务部长霍华德·卢特尼克在该新闻稿中说。
ASML目前使用的最先进激光器产生的极紫外光波长约为13.5nm。xLight的激光器目标是更精确的波长，低至2nm。如果该公司能够达到这种精度水平，将有助于芯片制造商在硅晶圆上刻画出更微小的线条。
这可能有助于半导体行业继续沿着摩尔定律描述的轨迹发展。“我们的工作是为了唤醒摩尔定律。”基辛格说。
基辛格说，这项新技术可以将晶圆加工效率提高多达30%至40%。（校对/李梅）
