晶圆代工厂台积电 (2330-TW)(TSM-US) 在官网宣布,2 纳米制程技术如期于 2025 年第 4 季开始量产,采用第一代纳米片晶体管技术,在高雄、新竹两地同步生产。
台积电表示,2 纳米 (N2) 技术已如期于 2025 年第四季开始量产。N2 技术采用第一代纳米片 (Nanosheet) 晶体管技术,提供全制程节点的效能及功耗进步,并发展低阻值重置导线层与超高效能金属层间电容以持续进行 2 纳米制程技术效能提升。
台积电指出,N2 技术将成为业界在密度和能源效率上最为先进的半导体技术,N2 技术采用领先的纳米片晶体管结构,将提供全制程节点的效能及功耗的进步,以满足节能运算日益增加的需求。N2 及其衍生技术将因我们持续强化的策略,进一步扩大台积电的技术领先优势。
与 3 纳米的 N3E 制程相比,在相同功耗下台积电 2 纳米速度增加 10% 至 15%;在相同速度下,功耗降低 25% 至 30%,同时芯片密度增加大于 15%。台积电也将推出 N2P 制程技术做为 2 纳米家族的延伸,计划 2026 年下半年量产,支持智能手机和高效能运算应用。
台积电 2 纳米在高雄厂、新竹厂同步展开,而高雄厂为 2 纳米生产的重中之重。台积电规划在高雄建置 5 座 2 纳米晶圆厂,总投资金额逾 1.5 万亿元新台币,P1 厂已于 2025 年底量产,P2 厂预计 2026 年第二季量产,创造 7000 个高科技职缺,带动高雄产业转型与升级。
