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EUV光源功率可提升至千瓦！ASML：2030年每小时晶圆产量可望提升50%
5 小时前
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来源：集微网
ASML找到提升关键芯片制造机器光源功率方法，预计2030年前将芯片产量提高50%，极紫外光(EUV)光刻设备每小时晶圆产量可增加50%。
《路透社》周一(23 日) 独家报导指出，ASML最新表示，已找到可大幅提升关键芯片制造机器光源功率的方法，进而能在2030 年前将芯片产量提高多达50%。
这家半导体设备制造龙头的研究人员指出，透过提升功率，可将光刻机极紫外光源的功率提升至1000 瓦，预计到2030 年极紫外光(EUV) 光刻设备每小时的晶圆产量可增加50%。
ASML技术长Michael Purvis 说：「这并非噱头，也不是那种只能维持极短时间演示的把戏，这是一个能在满足客户所有实际需求的情况下，稳定产生1000 瓦功率的系统。」
ASML是全球唯一能制造极紫外光(EUV) 光刻设备的公司，该设备是台积电、英特尔等晶圆制造商生产先进运算芯片的重要工具。
