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消息称低电压AI芯片企业Etched将洽谈200亿美元估值融资
21 小时前
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来源：凤凰网
Etched正洽谈以200亿美元估值融资，此前已筹集5亿美元，现估值100亿美元融资由红杉资本领投。其4nm推理加速器完成A0步进流片，电压比竞品低50%以上，算力效率更高。
7 月 20 日消息，《华尔街日报》当地时间 17 日报道称，开发低电压 AI 芯片的初创企业 Etched 正在洽谈以 200 亿美元（IT之家注：现汇率约合 1356.18 亿元人民币）的估值进行新一轮的融资。
Etched 在 2025 年 12 月以 50 亿美元的投后估值筹集了 5 亿美元。报道指出，Etched 也正处于估值 100 亿美元的融资轮种中，领投方为红杉资本；而其紧接着的下一轮融资则由现有投资者 Jane Street 领投。
作为参考，NVIDIA 去年 12 月与 Groq 达成非独占技术授权协议的开销为 200 亿美元。Etched 连续进行两轮估值快速增长的融资，显示人工智能企业的投资市场正由资金需方主导，且“NVIDIA 替代”概念受重视程度不断上升。
Etched 此前完成了其 4nm 推理加速器的 A0 步进流片。得益于等多层次的整体优化，该芯片数学模块电压比大多数竞品低 50% 以上，拥有更高的实际算力效率。
