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美国研究新光源：颠覆EUV光刻 效率大增增
2025-01-06
美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室正在研发拍瓦级铥激光器，其效率预计比极紫外光刻（EUV）工具中的二氧化碳激光器高出10倍，有望在未来取代光刻系统中的二氧化碳激光器。该激光器采用掺铥氟化钇锂作为激光增益介质，工作波长为2微米，能显著提升等离子体到EUV光的转换效率。此外，它采用二极管泵浦固态技术，具有更高的电效率和更优的热管理能力。这一技术突破可能为新一代“Beyond EUV”光刻系统铺平道路，实现更快、更节能的芯片生产。
