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这一新型部件或重塑现有系统 光源效率有望提升10倍
2025-01-07
尽管当前最先进的光刻机已能生产2nm芯片，但科学家仍在努力提升其综合性能，其中激光器或成为关键突破口。据Tom"s Hardware报道，美国实验室正研发一种拍瓦级大孔径铥（BAT）激光器，其能将极紫外光刻（EUV）光源效率提升约10倍，有望替代现有EUV工具中的二氧化碳激光器。
