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和远气体一专利获认证，可将CO2杂质脱除至0.1ppm以下

2025-01-15

1月15日，和远气体发布公告，宣布取得发明专利“一种半导体用超高纯氯化氢气体制备装置及其工艺”，专利号为ZL202111321362.7。

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