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传台积电拒绝三星提出的使用其尖端光刻技术量产Exynos芯片的建议
2025-01-16
三星电子在提升3纳米GAA工艺良品率方面面临显著挑战。其第一代和第二代3纳米GAA技术的良品率目标原定为70%，但据当前数据显示，改进后的第二代工艺良品率仅达到20%，远低于预期。相比之下，台积电的2纳米试生产良品率已达到60%，表现较为突出。三星电子为提高良品率，已寻求外部制造业协助，但仍需克服重大技术难题。
