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消息称三星电子3nm、2nm良率分别超60%、40%，正与外部客户展开性能评估
2025-05-13
三星电子基于GAA晶体管结构的3nm和2nm工艺良率已分别突破60%和40%。工艺良率的提升使三星积极争取先进制程订单，其晶圆代工业务预计即将完成英伟达GPU和高通移动端AP项目的2nm工艺性能评估。
