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Inversion计划研发更明亮、更快的光刻技术，芯片制造速度提升15倍

2025-05-30

Inversion Semiconductor利用激光尾场加速(LWFA)技术革新光刻，计划开发出更明亮、可调节的光源，有望将芯片制造速度提升15倍，并能实现更精细的微结构特征。这家初创公司正挑战市场领导者ASML，欲为半导体行业带来革命性变化。

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