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台积电2nm良率突破90%，美国厂将量产英伟达AI芯片
2025-06-03
台积电2nm制程良率已突破90%，流片数量达5nm节点的四倍。其美国亚利桑那工厂接近满负荷，主要供应苹果、英伟达等科技巨头，并预计年底量产英伟达AI芯片。尽管芯片价格或涨30%，但强劲需求使该厂产能利用率近100%，凸显台积电在全球芯片制造中的领先地位。
