2025年6月6日,美光科技宣布已开始出货全球首款基于1γ制程节点的LPDDR5X内存认证样品,旨在提升旗舰智能手机的AI性能。1γ制程属第六代10nm级别DRAM工艺,特征尺寸约11至12纳米。该LPDDR5X内存速度达10.7Gbps,功耗降低20%,封装厚度仅0.61毫米,比竞品薄6%。美光计划于2026年推出8GB至32GB全系列产品。此样品采用先进EUV光刻技术打造,标志着美光在先进制程领域的关键突破。