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英特尔董事：蚀刻技术将取代光刻成芯片制造核心
2025-06-20
英特尔董事提出，未来晶体管设计，例如GAAFET和CFET，或能减少对先进光刻设备，特别是EUV光刻机的依赖，这一观点对当前先进芯片制造范式提出了挑战。目前，ASML的极紫外（EUV）光刻机是制造7nm及以下节点高端芯片的关键，负责将微小电路设计印制到硅晶圆上。
