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三星评估韩国S&S Tech EUV空白掩膜，接近批准使用

6 天前

韩国掩模制造商S&S Tech的极紫外（EUV）空白掩模已接近获得三星的批准使用。三星计划年内在韩国国内采购EUV空白掩模版，以推进其半导体生产本土化战略。

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