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清华大学化学系团队合作开发出理想的极紫外（EUV）光刻胶材料
2025-07-24
清华大学化学系许华平教授团队近日在极紫外（EUV）光刻材料领域取得突破，开发出基于聚碲氧烷（PTeO）的新型光刻胶。该光刻胶满足了高EUV吸收能力、高能量利用效率、分子均一性和小构筑单元等理想条件，为先进半导体制造提供了新设计策略。这一成果有望推动下一代EUV光刻材料的发展，助力半导体工艺技术革新。
